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    半導體廢氣處理設備案例

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    半導體工業(yè)中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量的有機成分。在此過(guò)程中,這些有機溶劑大部分揮發(fā)到廢氣中。目前,焚燒這種處理凈化方式較為適用于這種氣體排放。

    一般半導體行業(yè)針對廢氣處理的解決方案如下:

      (1)預處理階段:采用噴淋塔先對廢進(jìn)行預處理,去除粉塵以及易溶于水的有害氣體。

      (2)主要處理階段:在此階段,比較常見(jiàn)而有效方法有:UV光解,生物過(guò)濾分解,焚燒和催化燃燒等。

    半導體廢氣處理廠(chǎng)主要廢氣有非甲烷總烴、氮氧化物、二氧化硫等,酸堿類(lèi),成分:氨氣、硫酸霧、氟化物、氯化物、氯氣等。

    我們可以采用組合形式的來(lái)進(jìn)行治理。UV光解凈化器,催化燃燒設備等廢氣治理設備,我們公司都有,歡迎咨詢(xún)。




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