光催化通常是指物在光的作用下，逐步氧化成低分子中間產(chǎn)物生成CO2、H2O及其他的離子如NO3-、PO43-、Cl-等。物的光降解可分為直接光降解、間接光降解。前者是指物分子吸收光能后進(jìn)一步發(fā)生的化學(xué)反應。后者是周?chē)h(huán)境存在的某些物質(zhì)吸收光能成激發(fā)態(tài)，再誘導一系列污染的反應。間接光降解對環(huán)境中難生物降解的污染物愈為重要。

利用光化學(xué)反應降解污染物的途徑，包括無(wú)催化劑和有催化劑參與的光化學(xué)氧化過(guò)程。前者多采用氧和過(guò)氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解后者又稱(chēng)光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類(lèi)型。均相光催化降解中較常見(jiàn)的是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì)，通過(guò)photo-Fenton反應產(chǎn)生HO使污染物得降解，非均相光催化降解中較常見(jiàn)的是在污染體系中投加量的光敏半導體材料，同時(shí)結合量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生HO等氧化性不錯的自由基，再通過(guò)與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式污染物全部或接近全部礦化。

uv光催化氧化設備的特點(diǎn)：

1、速率好性：光催化氧化驅臭設備能速率好去掉揮發(fā)性物(VOC)、無(wú)機物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭速率不錯可達%，遠超過(guò)惡臭污染物排放標(GB14554-93)。

2、無(wú)需預處理：光催化氧化驅臭設備惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特別的預處理，如加溫、加濕等，驅臭設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在30%-80%、PH指在3-11之間均可正常工作。

3、無(wú)需添加任意物質(zhì)：只需要設置相應的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)光催化廢氣處理設備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任意物質(zhì)參與化學(xué)反應。

4、運行成本還行：光催化驅臭設備去任意機械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護，只需定期檢查，本設備能耗低，(每處理廢氣風(fēng)量為1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0。2度電能)，設備風(fēng)阻低<100pa。

5、光解作用：UV-C紫外線(xiàn)C波段(254nm)光束輻射小顆粒分子(由氨基酸組成的蛋白質(zhì)分子，由脂肪酸組成的脂肪分子，由糖組成的淀粉分子，還有維生素分子、礦物質(zhì)分子)將油脂分子鏈切斷，改變油脂的分子結構揮發(fā)性物易受UV-C的攻擊。

6、氧化作用：UV-C紫外線(xiàn)C波段(185nm)在工作時(shí)與空氣中的氧氣反應生成臭氧。臭氧是一種強氧化劑，對氣體中的醇類(lèi)、酯類(lèi)、酮類(lèi)、醛類(lèi)、醚類(lèi)、苯類(lèi)等分子氧化分解成如水蒸氣和二氧化碳等沒(méi)有危害的化合物。臭氧和OH同化合物反應并改變它們。

uv光催化氧化設備維護時(shí)要注意的事項：

1、需要認真執行各項規章制度

要嚴格遵守上述規程外，還應有一套適合自己實(shí)際情況的運行管理制度，如崗位責任制度，交接班制度，檢測制度，設備維護、檢修制度，健康檢查制度，質(zhì)量檢驗制度和經(jīng)濟核算制度等。

2、改成要嚴格遵守廢氣處理工藝技術(shù)規程、穩定規程和崗位操作規程，這些規程是組織生產(chǎn)與進(jìn)行操作的基本法規，是從生產(chǎn)和實(shí)踐中總結出來(lái)的規律性的東西。嚴格遵守這些法規是日常運行中重要的一條原則。

3、需要要強調各工種的相互配合，生產(chǎn)中往往因廢氣處理設備輔助工作發(fā)生錯誤而影響生產(chǎn)的正常運行，如分析的錯誤將引起加料量和物料成分的改變；儀表的指示錯誤會(huì )欺騙操作人員，使得實(shí)際操作條件偏離工藝規程的要求。電器故障和設備故障也會(huì )引起生產(chǎn)的不正常。